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과학기술정책 이슈에 대한 심층분석 정보

이슈분석

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세계 지적재산권지표 중 특허 현황

  • 국가 국제기구
  • 주제분류 기술혁신지원
  • 발간일 2009-01-01
  • 권호
첨부파일
  • pdf 첨부파일 WIPO 세계지적재산권지표 현황(09-10.pdf (256.16KB / 다운로드 329회 / 미리보기 0회)
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세계지적재산권기구(WIPO)는 2009년 세계 지적재산권 지표 현황 보고서를 발표. 본 보고서는 2007년 데이터를 대상으로 분석한 내용으로, 전년도 대비 전체 특허출원건수는 3.7% 증가했으며, 특허 출원의 약 60%가 미국, 일본, 중국 3개국에 의한 것이었으며, 한국, 일본, 미국의 특허청이 전 세계 특허의 약 58.3%를 승인하였으며, 전 세계적인 경제불황을 반영하여 2007년의 경우 전년 대비 특허 출원과 등록에서 모두 낮은 증가율을 나타내고 있음

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1. 개 요

 ○ 세계지적재산권기구(WIPO)는 2009년 세계 지적재산권 지표 현황 보고서를 발표

     ※ 동 보고서는 2007년 데이터를 대상으로 분석

 

○ 전년도 대비 전체 특허출원건수는 3.7% 증가했으며, 특허 출원의 약 60%가 미국, 일본, 중국 3개국에 의한 것이었으며, 한국, 일본, 미국의 특허청이 전 세계 특허의 약 58.3%를 승인

 

○ 그러나, 전 세계적인 경제불황을 반영하여 2007년의 경우 전년 대비 특허 출원과 등록에서 모두 낮은 증가율을 나타내고 있음

     ※ 특히 2007년의 경우 미국과 유럽특허청의 특허등록 증가율이 감소하였음

   - 2008년에는 증가율이 더욱 낮아질 것으로 보임



2. 데이터 제공 및 조사방법

 ○ 본 보고서의 지적소유권데이터는 국가 및 지역의 특허청에서 제공되는 정보를 바탕으로 WIPO가 집계한 WIPO Statistics Database로부터 제공됨

   - WIPO의 지적재산권데이터 조사는 매년 설문 조사를 통해 전세계의 특허청으로부터 데이터를 수집



 ○ 본 보고서에서 사용되는 각 지표 및 기술분야 등은 WIPO에 의해 개발된 것임



3. 특허 출원 지표

□ 특허청 소재지별 특허출원 경향

 ○ 세계적으로 특허출원 총 수로 볼 때, 2005년 이후 성장률이 감소되었으며, 2007년에는 약 185만건으로 전년대비 3.7% 증가

   - 또한, 2008년에는 금융위기 영향으로 미국에서의 증가율 감소가 크게 나타날 것으로 보임



 ○ 지역적으로 보면 특허출원의 경우 1950년대 후반 이후 내외국인을 포함하여 일본특허청에 출원된 특허건수가 급격히 증가하기 시작하였고, 미국에서는 1980년 중반 급속히 증가

   - 최근에는 중국특허청 및 한국특허청으로의 내외국인을 포함한 특허출원 증가가 현저한데, 1995년~2007년 사이 중국의 경우 성장률이 23.9%(연평균성장률)로 나타남

   - 2007년의 경우 한국특허청에 출원된 특허출원 건수는 172,469건으로 미국, 일본, 중국에 이어 4위를 기록함



□ 출원국별 특허출원 경향

 ○ 2007년 내국인 출원에 있어서 가장 많은 비중을 차지하고 있는 국가들은 일본, 미국, 중국, 한국으로 나타남

   - 2003년~2007년 사이 일본은 내국인 출원이 연 1.8%씩 감소한 반면, 중국과 한국은 각각 28.1%, 9.3%씩 증가



 ○ 특허출원국(발명국)과 특허출원지(특허청 소재지)를 함께 살펴보면 일본(발명국)에서의 해외특허출원은 중국특허청, 한국특허청, 미국특허청의 순으로 외국인 출원 중 큰 비중을 차지

   - 한국(발명국)에서의 해외특허출원은 미국특허청, 일본특허청, 중국특허청 순으로 해외 특허 출원건수가 많음



□ 기술분야별 특허출원

 ○ 2002년~2005년 사이 컴퓨터, 정보통신, 시청각 관련 기술분야 특허 출원 증가가 크며, 연간 성장률이 6% 이상

   - 반면, 바이오 기술 분야는 동 기간 중 점차 감소



 ○ 대응 특허*의 경우 외국으로부터 신청된 건수를 보면, 일본에서의 신청은 광학분야가, 중국, 한국, 스웨덴에서의 신청은 정보통신분야의 비중이 큼

    * 대응 특허 : 한 발명에 대해 각 국가마다 출원된 특허 묶음. 일반적으로 해당국가에서 상업적인 이익 또는 기술경쟁 관계에 있을 때에 해외 특허를 출원



□ 특허협력조약(PCT, Patent Cooperation Treaty)*에 의한 출원

 ○ 2008년의 경우, 약 163,600건으로 전년대비 2.3% 증가

   - 2003년~2008년 사이 특허협력조약에 의한 출원에서 중국, 일본, 한국이 차지하는 비중은 2%이상 증가한 반면, 미국은 2.9% 감소

    * PCT는 한 곳의 특허청에 특허출원을 함으로써 다수의 국가에 특허 출원을 한 것으로 간주하는 제도로, 복수 국가에 대한 특허 출원의 과정을 간소하게 함



 ○ 2008년의 경우 기업 부문이 총 신청의 83.8%를 차지

   - 중국 기업(Huawei Technology)이 최고 건수를 기록, 다음으로 일본 파나소닉, 네델란드의 필립스 등으로 나타남

   - 한국은 LG전자가 8위(992건), 삼성전자가 19위(639건)를 기록

   - 대학은 미국의 캘리포니아 대학이 가장 높은 건수를 기록했고, 동경대(12위), 서울대(14위) 등도 20위 안에 진입



□ 특허출원과 GDP

 ○ 한국과 일본이 GDP대비 가장 높은 자국 내 특허출원 비율을 보임

   - 핀란드, 덴마크, 이스라엘 등의 GDP대비 자국 내 특허출원 순위가 프랑스, 영국 등보다 높아짐







※ 구체적인 지표 값은 나와있지 않음





□ 특허출원과 R&D투자

 ○ R&D 투자 대비 가장 높은 내국인 특허출원 비율을 나타내고 있는 국가는 한국이며 다음으로 일본, 벨라루스, 중국 등임











○ R&D 투자 비중이 높은 국가들이 자국 내 특허출원 비중이 높은 것으로 나타남

   - 미국, 중국, 독일, 일본, 한국 등이 전체 세계 R&D투자의 70%를 차지하고 있고 자국 내 특허출원 중 가장 높은 비중을 차지


4. 특허 등록 경향

□ 특허청 소재지별 특허등록 경향

 ○ 2007년 총 특허등록 건수는 약 764,700건으로 전년대비 1.6% 증가했으나, 2006년의 증가율 19.4% 보다는 대폭 하락

   - 특허등록 건수 증가율의 하락은 특허출원 건수가 증가함에 따라 적체로 인해 심사가 계류된 특허출원이 증가하였기 때문(특히 미국 특허청)

   - 2007년의 경우 43.9%가 외국인 특허등록으로 나타남



 ○ 미국특허청이 1998년 이후 가장 많은 특허등록 허가 건수를 나타냈으나, 2007년 일본과 순위가 바뀜

   - 중국과 유럽특허청이 순위가 바뀌어 일본, 미국, 한국, 중국, 유럽 순으로 등록건수가 나타남

   - 이 5개 특허청이 전체의 74.4%를 차지



□ 출원국별 특허등록 경향

 ○ 내국인 특허등록건수를 보면, 2007년 기준으로 일본이 가장 많은 내국인 특허등록건수를 보이고 있으며, 한국, 미국 순으로 나타남

   - 2003년~2007년 사이 일본과 한국은 각각 7.0%, 31.6% 증가한 반면, 미국은 2.5% 감소



 ○ 동기 간 중 상위 5개국(일본, 한국, 미국, 중국, 러시아)이 내국인 등록 중 차지하는 비중이 80.1%에서 85.5%로 증가

   - 외국인 등록에 있어서는 상위 5개국(일본, 미국, 독일, 프랑스, 한국)이 차지하는 비중이 66% 정도로 거의 동일하게 유지



□ 심사계류 경향

 ○ 전세계적으로 특허심사가 계류 중인 총 건수는 2007년 420만 건

   - 미국특허청이 전체의 28.4%를 차지하고 있으며 2004년~2007년 사이 연 증가율 15.4%로 빠른 증가추세

   - 일본의 경우는 심사기간 단축(7년에서 3년)으로 인한 업무량의 증가로 계류가 발생

   - 유럽과 한국의 특허청은 계류 증가율이 비교적 낮음

 

○ 일본, 미국, 유럽에서 모두 평균 심사 기간과 첫 번째 계류시기가 증가되고 있는 추세이며, 모두 특허출원건수의 증가와 관련됨

   - 한국은 출원건수의 증가에도 불구하고 감소되는 추세

     * 2006년~2007년 사이 심사계류기간이 유럽특허청은 43.9개월에서 45.3개월, 일본은 31.8개월에서 32.4개월, 미국은 31.3개월에서 32개월로 증가


5. 시사점

 ○ 전세계적으로 특허 출원 및 등록 건수는 증가하고 있으나, 경제불황으로 인해 증가율은 감소하고 있음



 ○ 한국은 특허생산에 있어 눈에 띄는 성과를 보이고 있음

   - 중국에 이어 두 번째로 특허출원 증가율이 높고, GDP 대비 특허출원은 가장 높음

   - 또한 R&D 투자대비 특허출원에서 가장 높은 생산성을 보임

 

○ 그러나, 특허의 경제성장 유인도(특허수익성)은 낮은 실정

   - 일본 자료에 의하면, 한국의 특허생산성*은 높은 반면 특허수익성**은 일본 다음으로 낮은 수준을 보이고 있어 특허가 경제적 부가가치 창출로 연계되지 못함(연구개발투자와 과학기술수준 동향, 일본 경제산업성, 2009.2)





* 특허생산성 = (‘01-’05년간 특허 수)/(‘97-’01년간 연구개발비)

    ** 특허수익성 = (‘06년 GDP)/(‘01-’05년간 특허 수)

      그림 내의 숫자는 ‘01-’05년간 특허 수를 나타냄 (단위: 만건)

  

- 산‧학‧연 협력, 기술이전, 특허 Pool 등을 통해 휴면특허를 최소화하고, R&D 기획단계에서부터 특허맵 및 사전적 경제성 분석을 통해 특허의 질적 향상을 도모할 필요







* 도표 등과 관련된 상세 내용은 첨부파일을 참조하시길 바랍니다.



* 본 자료는 교육과학기술부 과학기술기반과와 KISTI 정보분석본부, KISTEP 정책기획실 등에서 

  분석한 내용을 바탕으로 한 것입니다




 

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