□ 과학기술지표는 객관적·정량적 데이터에 근거하여 일본의 과학기술활동을 체계적으로 파악하기 위한 기초자료로 5개* 부문으로 구성 

○ 매년 간행되는 과학기술지표는 시계열 비교 및 주요 국가 간 비교가 가능

  * 연구개발비, 연구개발 인력, 고등교육, 연구개발 성과, 과학기술과 혁신 등

□ (연구개발비) 일본 전체의 연구개발비 총액은 2011년 기준 17.4조 엔으로 전년도에 비해 1.6% 증가

○ 2008년 이후 지속적으로 감소하다가 처음으로 증가세를 보였으며 이는 기업 연구개발비가 2009년 대폭 감소한 이후 회복되는 것에 기인

○ 기업 연구개발비는 1990년대 중반 이후 증가하고 있으나 공공기관에서 사용한 연구개발비는 감소하는 추세

□ (연구개발 인력) 2012년 기준 전체 연구자 중 기업에 가장 많은 연구자가 분포

○ 기업의 연구자 비율은 74.9%로 미국(80.0%, 2007년), 한국(76.5%, 2010년)과 비슷한 수준

  ※ 기업 74.9%, 대학 19.1%, 공공기관 4.9%, 기타 1.1% 

○ 전체 연구자 중 박사학위 취득자는 전체의 20.3%로 대학에 55.5%, 기업에 4.2%가 분포

□ (고등교육) 2012년 기준 대학 및 대학원(석사 및 박사과정) 입학자 수는 전년도에 비해 감소 

○ 학부 입학자 수는 전년도 대비 0.8% 감소한 60.5만 명으로 2000년대부터 일정한 추이를 유지

○ 석사 입학자 수는 전년도 대비 5.5% 감소한 7.5만 명으로 2010년부터 감소

○ 박사과정의 경우 2003년도부터 꾸준히 감소하여 전년도 대비 0.8% 감소한 1.6만 명이 입학

○ 이공계의 경우 학부 졸업생 중 취직자 비중은 48.5%, 석사과정 수료자의 경우 84.3%, 박사과정 수료자의 경우 73.7%를 기록

□ (연구개발 성과) 일본의 논문 성과는 양적 측면의 논문 수뿐만 아니라 피인용 논문 수로 살펴본 질적 성과도 점차 감소 추세이나 특허 성과는 세계적 수준

○ 논문 수는 2000년～2002년 평균 세계 2위(66,637건, 전체의 8.5%)였으며 2010년～2012년 평균으로는 미국, 중국에 이어 3위를 차지

  ※ 1위 미국 258,421건(21.6%), 2위 중국 137,624건(11.5%), 3위 일본 64,579건(5.4%), 9위 한국 37,226건(3.1%) 

○ 피인용도 상위 10% 논문 수는 2000년～2002년 평균 세계 4위(4,767건, 전체의 6.1%)였으나 2010년～2012년 평균으로는 6위를 기록

  ※ 1위 미국 37,733건(31.5%), 2위 중국 10,965건(9.1%), 6위 일본 4,809건(4.0%), 12위 한국 2,402건(2.0%) 

○ 특허출원의 경우 국제비교를 위해 특허 패밀리*를 분석한 결과 2006년～2008년 평균 특허 패밀리 수가 세계 1위

  ※ (1986년～1988년 평균)304,517건 → (1996년～1998년 평균)340,930건 → (2006년～2008년 평균)320,487건 

  * 여러 나라 및 지역에서 출원하는 것을 반영하여 같은 내용의 특허를 동일한 특허 패밀리로 보고 발명자의 국적 및 지역별로 집계한 것.

    세계 순위는 일본(1), 미국(2), 독일(3), 한국(4), 프랑스(5), 중국(6), 대만(7)의 순

□ (결론 및 시사점) 2012년 일본의 과학기술활동을 분석한 결과, 연구개발비는 전년도에 비해 증가하였으나 고등교육에 유입된 인력 수는 감소

○ 2011년 기준 전체 연구개발비는 17.4조 엔으로 ’08년 이후 계속 감소세를 기록하다 처음으로 증가세를 보였으나 대학생 및 대학원생 입학자 수는 ’12년도 비해 감소한 수치를 기록

○ 특허 성과는 세계적 수준이나 논문 성과의 경우 양적 및 질적 측면에서 주요국과 비교하여 지위가 하락

○ 논문 성과가 감소하고 있으나 우리나라보다 약 2배 높은 수준으로 일본 연구자와의 국제공동논문 산출을 위해 해외 R&D 협력 활동을 활발히 진행하고 중점 연구 분야에 대한 지속적인 모니터링이 필요 

출처 : 과학기술정책연구소(2013.11.1)
http://data.nistep.go.jp/sti_indicator/2013/RM225_00.html
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