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반도체디바이스 혁신을 위한 소재개발전략~2차원 반도체 소재의 신규 도입~ 원문보기 1
- 국가 일본
- 생성기관 과학기술진흥기구 연구개발전략센터(CRDS)
- 주제분류 핵심R&D분야
- 원문발표일 2023-04-03
- 등록일 2023-04-28
- 권호 237
○ 과학기술진흥기구 연구개발전략센터는 트랜지스터의 채널 재료 및 제조 프로세스(프로세스 노드)가 크게 바뀔 것으로 예상되는 1nm 이하 세대에 활용될 것이라 기대되는 2차원 소재를 이용하기 위해 이종소재의 계면특성 평가, 성막·기판 제작, 디바이스 구조 제작·집적화 등의 기반 기술을 창출하기 위한 연구개발전략을 담은 「반도체디바이스 혁신을 위한 소재개발전략」 공표
- 2차원 소재의 트랜지스터 채널 이용과 관련된 과학기술 연구개발전략 수립이 중요해지고 있는 가운데 향후 추진해야 할 연구개발과제로서는 다음과 같은 다양한 기반기술이 필요
① 2차원 소재 및 다른 소재와의 계면의 물성·기능 이해와 모델링:
- 2차원 소재와 다른 소재와의 헤테로 계면의 물리적·화학적 특성 및 응력, 전기특성 등을 나노 스케일로 평가할 수 있는 분석·평가기법, 측정 결과를 이해하는 모델 및 이론 구축, 고성능·고품질 헤테로 계면 형성 기법, 새로운 조성 및 결정 구조의 2차원 소재 탐색 등
②고품질 성막 및 기판 제작 :
- 화학기상증착(CVD) 기술, 스퍼터 기술, 원자층 퇴적(ALD)법, 선택성장기술 및 다른 기판상에 성막한 고품질 결정층을 실리콘 기판상에 전사하는 전사기술 등
- 상기 연구개발을 효율적으로 추진해 나가기 위해서는 일본의 현 상황에 적합한 연구개발체제 정비와 함께 소재과학, 이론과학, 프로세스 과학, 데이터 과학, 디바이스 물리, 시뮬레이션 등 연구분야간 협력 및 2차원 소재기판의 제작 및 디바이스 시작·평가가 가능한 공용시설정비, 이러한 연구개발 활동을 지원하는 다양한 수준에서의 펀딩 등 필요
- 2차원 소재의 트랜지스터 채널 이용과 관련된 과학기술 연구개발전략 수립이 중요해지고 있는 가운데 향후 추진해야 할 연구개발과제로서는 다음과 같은 다양한 기반기술이 필요
① 2차원 소재 및 다른 소재와의 계면의 물성·기능 이해와 모델링:
- 2차원 소재와 다른 소재와의 헤테로 계면의 물리적·화학적 특성 및 응력, 전기특성 등을 나노 스케일로 평가할 수 있는 분석·평가기법, 측정 결과를 이해하는 모델 및 이론 구축, 고성능·고품질 헤테로 계면 형성 기법, 새로운 조성 및 결정 구조의 2차원 소재 탐색 등
②고품질 성막 및 기판 제작 :
- 화학기상증착(CVD) 기술, 스퍼터 기술, 원자층 퇴적(ALD)법, 선택성장기술 및 다른 기판상에 성막한 고품질 결정층을 실리콘 기판상에 전사하는 전사기술 등
- 상기 연구개발을 효율적으로 추진해 나가기 위해서는 일본의 현 상황에 적합한 연구개발체제 정비와 함께 소재과학, 이론과학, 프로세스 과학, 데이터 과학, 디바이스 물리, 시뮬레이션 등 연구분야간 협력 및 2차원 소재기판의 제작 및 디바이스 시작·평가가 가능한 공용시설정비, 이러한 연구개발 활동을 지원하는 다양한 수준에서의 펀딩 등 필요
