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최첨단 포토레지스트 동향 ~ 일본의 전략 방향성 ~ 원문보기 1
- 국가 일본
- 생성기관 미즈호은행
- 주제분류 핵심R&D분야
- 원문발표일 2023-10-10
- 등록일 2023-10-17
- 권호 250
○ 미즈호은행은 반도체 기술개발에 있어 중요한 요소의 하나인 미세화를 위한 핵심 기술인 포토레지스트 관련 동향 및 일본의 전략 방향성에 대해 기술한 보고서를 발표
- 포토레지스트는 반도체 제조의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 회로 형성 소재로 일본의 포토레지스트 업체들은 뒤늦게 참여하였으나, 뛰어난 기술력을 무기로 높은 경쟁력 확보
- 지금까지 공정의 미세화는 노광 광원을 보다 짧은 파장으로 진화시키는 방향으로 이루어져 왔으며, '19년부터 13.5nm의 매우 짧은 파장의 빛을 이용한 EUV 리소그래피가 실용화되었고, 포토레지스트는 노광 광원의 진화에 따라 개발 및 개량이 이루어져 왔음
- 포토레지스트 성능의 평가축으로써 주로 감도·해상도·거칠기를 들 수 있는데, 이들은 트레이드오프의 관계에 있음
- 이러한 트레이드오프의 개선이 어려운 가운데, 향후 2nm 및 1.Xnm로 진화해 가는 미세화에 대응 가능한 포토레지스트로써 PAG bound-CAR 및 Wet/Dry-MOR와 같은 다양한 타입의 최첨단 포토레지스트의 개발이 진행 중
- 일본의 포토레지스트 업체들이 앞으로도 높은 기술력과 경쟁력을 유지하기 위해 필요한 전략으로는 ①시장으로서의 중국에 대한 고려, ②일본 내에서의 조율, ③합종연횡(合従連衡), ④공급망 다각화를 들 수 있음
- 포토레지스트는 반도체 제조의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 회로 형성 소재로 일본의 포토레지스트 업체들은 뒤늦게 참여하였으나, 뛰어난 기술력을 무기로 높은 경쟁력 확보
- 지금까지 공정의 미세화는 노광 광원을 보다 짧은 파장으로 진화시키는 방향으로 이루어져 왔으며, '19년부터 13.5nm의 매우 짧은 파장의 빛을 이용한 EUV 리소그래피가 실용화되었고, 포토레지스트는 노광 광원의 진화에 따라 개발 및 개량이 이루어져 왔음
- 포토레지스트 성능의 평가축으로써 주로 감도·해상도·거칠기를 들 수 있는데, 이들은 트레이드오프의 관계에 있음
- 이러한 트레이드오프의 개선이 어려운 가운데, 향후 2nm 및 1.Xnm로 진화해 가는 미세화에 대응 가능한 포토레지스트로써 PAG bound-CAR 및 Wet/Dry-MOR와 같은 다양한 타입의 최첨단 포토레지스트의 개발이 진행 중
- 일본의 포토레지스트 업체들이 앞으로도 높은 기술력과 경쟁력을 유지하기 위해 필요한 전략으로는 ①시장으로서의 중국에 대한 고려, ②일본 내에서의 조율, ③합종연횡(合従連衡), ④공급망 다각화를 들 수 있음
