국내외 과학기술 정책에 대한 간략한 정보
단신동향
국내단신
반도체 극자외선 노광기술 국내 기업･학계 선전 원문보기 1
- 국가 한국
- 생성기관 특허청
- 주제분류 과학기술전략
- 원문발표일 2020-11-12
- 등록일 2020-11-20
- 권호 179
○ 최근 10년간(’11년~’20년) EUV 노광기술 특허출원 수는 ’14년 88건을 정점으로 ’18년 55건, ’19년 50건으로 집계
※ EUV(Extreme Ultra-Violet) 노광기술은 극자외선을 이용해 반도체 회로 패턴을 그리는 것으로 10나노 이하 초미세 회로 패턴을 그리기 위해 필수
- 출원수는 감소했지만 ’19년부터 내국인 출원이 외국인 출원 건수를 앞서며 국내 기술이 성장기에 접어들고 있는 것으로 분석
-(기업별) 칼짜이스(獨) 18%, 삼성전자 15%, ASML(和) 11%, 에스엔에스텍(韓) 8%, TSMC(臺) 6%, SK하이닉스 1%로 6대 글로벌 기업이 전체 출원의 59% 차지
- (공정기술별) 삼성전자 39%, TSMC(臺) 15%로 두 기업의 출원이 54% 차지
